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曾有科学家研究过密度对对光学镜面加工质量的影响，初步研究结果所示，在相同加工工艺条件下，碳化硅陶瓷密度对光学镜面加工质量确实有一定影响。当采用一定粒度的金刚石抛光液对碳化硅陶瓷试样进行光学镜面加工时，低密度的碳化硅陶瓷光学镜面加工后表面粗糙度较高，高密度的碳化硅陶瓷光学镜面加工后表面粗糙度较低。
通过光学显微镜观察，碳化硅陶瓷光学镜面加工后表面缺陷主要表现为气孔或缺陷，密度较高的碳化硅陶瓷试样光学镜面加工后，表面气孔或缺陷更少，表面质量更好。另外，降低磨粒尺寸有利于表面质量的提高。
如上所述，碳化硅陶瓷密度对光学镜面加工质量有一定影响，在一定密度范围内(3.09～3.13g·cm³)，光学镜面加工质量差别不大，若进一步改善加工工艺，采用粒度更小的抛光液对碳化硅陶瓷试样进行光学镜面加工后，均可得到较好的表面质量。这说明，当碳化硅陶瓷密度达到一定高度时，密度对光学镜面加工质量的影响可通过光学镜面加工工艺的优化而减小或消除，即影响碳化硅陶瓷光学镜面加工质量的主要因素表现为加工工艺参数，而密度对光学镜面加工质量的影响则可以忽略。
因此综合来看，为使SiC材料具有超光滑表面以满足光学应用要求，目前常用的解决办法主要是：对SiC材料进行表面改性，其方式为在SiC镜体光学表面镀致密化涂层，然后对涂层进行抛光。
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